标签: 尼康 ASML 浸没式光刻机 EUV光刻机-连绵起伏网

标签: 尼康 ASML 浸没式光刻机 EUV光刻机

时间：2026-11-14 来源：连绵起伏网

云梦级3月30日云梦级消息，尼康发布2025财年亏损预警，预计亏损850亿日元标签，创下自1917年创立以来的百年最差业绩。过去半年，尼康光刻机仅出货9台，且均为成熟制程: 的老款设备，在先进制程领域彻底丧失竞争力，市场份额跌至个位数。

而同期荷兰ASML光刻机出尼康货327台，其中高端EUV光刻机48台，占据全球高端市场绝对主导地位。尼康的衰 A落始于两次关键的拒绝选择。

2002年，台积电林本坚提出浸没式光刻技术构想，可突破当时1SM93nm干式光刻机瓶颈，却因尼康的路径依赖遭全盘否定，尼康彼时已在157nm干式L 光刻机投入数亿美元，不愿放弃既有投入。

该技术后被ASML接手，2004年 ASML浸没与台积电合作推出首款浸没式光刻机，迅速占领市场，尼康后续跟进已错失先机。在半导体出口式光管制背景下，尼康选择紧跟美国步伐，放弃与中国市场的合作，而中国曾是其最大市场，刻机设备对华销量占比一度超40%。

这一选择导致其设备交付延误、成本飙升，中国客户转向国产 E替代，尼康进一步丧失市场空间。此外，尼康还存在多重战略失误。其过度押注英特尔单一客UV户，2024年英特尔削减资本开支直接引发尼康订单暴跌，且未能及时拓展台积电、三星等核心客光刻户。

在EUV光刻机研发上，尼康坚持全自研、全日本产路线，投入超千亿日元仅造出无法商用的标签原型机，最终于2018年终止该业务的商业化开发。2025年9月，尼康关闭运营58: 年的横滨工厂，光刻机业务持续收缩。